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UV减粘膜又名UV失胶胶带、UV减粘胶带，UV膜是特殊的PO涂上基膜UV高粘度胶水。它表现出高粘度(12000g~2000g）但紫外线照射后，粘接力急剧下降(5g~10g）由特殊胶水制成的单面胶带，甚*更低或无附着力。
PO基膜是日本采用流延法制成的一种新型基膜，是一种通过多种工艺制成的未拉伸聚烯烃共聚物膜。基膜材料柔软，与市场传统相同PE膜及EVA膜具有突出的拉伸强度和抗撕裂强度 采用纳米技术，多工艺，多结构。其表面防水，另一表面防静电晕处理。无沉淀物，不易吸收灰尘，长期保持高透光。抗拉性强，切割时无灰尘，耐磨性好，具有紫外线保护作用。UV减粘膜(失粘膜)和OGS抗酸膜的主要基膜材料。
目前，一些国内制造商已经开始发展，但其效果并不令市场满意。因此，大多数减粘膜仍然停留在PET基材上！PO基材是用于晶片研磨、切割、精细电子零件加工和各种材料微小零件加工切割的功能基膜。目前是各大中小涂料厂UV减粘膜、抗酸膜等理想选材。
UV减粘膜和抗酸膜用于以下行业：
1.适用于硅晶片、钢化玻璃、电子元件T元器件、MLCC定位切割片式电容器，PLC芯片、晶圆等半导体的切割制造工艺保护，EMC或陶瓷基板LED灯珠，QFN，PCB，半导体芯片密封Package，PLC元器件、光纤头元器件、晶圆 LDE芯片切割，石英玻璃， 手机摄像头玻璃， 滤光片切割QFN和DFN切割等；
二、半导体晶片表面加工；电子光电工业零部件生产加工工程；LCD和TP触摸面板玻璃减薄，研磨抛光；LED切割抛光；蓝宝石基板薄磨工艺；晶片研磨、切割、各种硅片、封装基板、陶瓷、玻璃、水晶精细电子零件等；
3、PO适用于抗酸膜ITO玻璃、COVER LENS玻璃盖板化学强化酸蚀刻工艺保护；
4.其他工艺需要高粘度、紧密贴合保护，后期需要撕裂保护。
UV保护膜的特点：
1.切割时附着力高，照射UV当粘度很低时，晶片不会飞走，也不会留下胶水。因为有很强的粘附力来固定晶圆，即使是小芯片也不会移位或剥离，可以真正切割。
2：照射UV快速响应时间，有效提高工作效率，通过紫外线照射可控制瞬时粘附力，即使是大芯片也可以用较轻的力捡起产品。
3.在切割过程中保持晶粒完整(无晶粒流失)，减少切割过程中的坍塌。
4.确保晶粒在正常传输过程中不会位移或脱落，水不会渗入晶粒和胶带。
5、Uv固化晶圆切割保护膜的特点是uv固化前有普通保护膜无法比拟的超高粘度(可达到惊人效果1500g-2000g gf/25mm） 在经过uv紫外线照射后，粘度可变为超低粘度15g-20g。粘性克数甚*更低。
6.另一个特点是还有另一个特点PO基材具有很强的(横向和纵向)延展性（elongation可达300 ，600。
来源：东
2019年膜涂工艺研讨会
时间：2019年5月30日
地点：东莞
人群:设备制造商、材料制造商、涂料厂等上下游企业
探讨话题
1、 常用的薄膜表/界面微结构及性能分析讨论涂料产品的质量；
①常用的薄膜基材表面分析；
②常用涂布液的分析介绍；
③膜/涂层液界面分析
2、 设备和工艺浸润(润湿)涂层液和膜界面
①介绍涂装设备的分类和特点；
②对各种涂装工艺的疑难及案例分析。
3、 涂层改性研究膜表/界面
①膜涂改性介绍；
②膜涂改性分析；
③膜涂改性工艺；
④膜涂改性发展方向。
咨询：莫
